蒸發(fā)過程中，需要設(shè)定條件:膜材蒸發(fā)溫度、膜材蒸發(fā)的蒸汽壓力;膜材料的蒸發(fā)速率。鍍膜材料逃逸遷移的蒸發(fā)過程中，需要建立條件:在鍍膜過程中，要保持真空室的真空度一直高于10-2Pa，真空度應(yīng)是一個合適的固定值，不是越高越好。為了使反應(yīng)氣體與氣膜材料顆粒充分反應(yīng)，可選擇較低的沉積速率。當(dāng)然，對于不同的材料，應(yīng)選擇不同的蒸發(fā)速率。

     如果根據(jù)透明度判斷，鋁箔、鍍鋁膜一般是不透明的復(fù)合膜;具有高阻隔功能，一般用于復(fù)合膜。從薄膜的外觀和機(jī)械性能可以大致判斷基膜材料。真空鍍膜專指在真空條件下用物理方法，將物質(zhì)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離離子，并通過低壓氣體的過程，將基材材料表面沉積成具有薄膜材料某些特殊特性的材料，按操作工藝可分為兩種，濺射沉積法和真空蒸發(fā)沉積法。PVD技術(shù)是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，在真空條件下用物理方法，將物質(zhì)表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離離子，并通過低壓氣體(或等離子體)過程，基片材料表面沉積具有特殊功能的薄膜材料。