企業(yè)名稱：聯(lián)盈光學(xué)有限公司
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光學(xué)鍍膜過程對溫度控制要求較高，尤其是在多層干涉膜系統(tǒng)或高折射率材料沉積中，溫控精度對膜層光學(xué)性能與附著力具有直接影響。
在東莞光學(xué)鍍膜設(shè)備中，常見溫控系統(tǒng)包括加熱靶材溫控、電阻絲控溫、紅外感應(yīng)測溫與反饋閉環(huán)控制。標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備溫控精度一般控制在±2℃以內(nèi)，對于應(yīng)用需求，可實(shí)現(xiàn)±1℃甚至±0.5℃的準(zhǔn)確調(diào)節(jié)。整個(gè)真空腔體的溫度分布均勻性也是控制內(nèi)容。
為了保持鍍層光學(xué)性能一致性，部分設(shè)備支持多點(diǎn)測溫及分區(qū)加熱功能，確保膜層沉積過程中基材受熱穩(wěn)定。此外，系統(tǒng)需配套熱保護(hù)機(jī)制，以避免突發(fā)溫升引發(fā)膜層開裂或基材變形。
東莞地區(qū)的光學(xué)鍍膜生產(chǎn)多數(shù)服務(wù)于鏡頭、顯示面板、傳感器等高精度行業(yè)，因此設(shè)備溫控系統(tǒng)常搭載實(shí)時(shí)記錄與報(bào)警裝置，以便過程可控可追溯，保障產(chǎn)品一致性。
