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光學(xué)鍍膜材料的分類(lèi)及特點(diǎn)

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光學(xué)鍍膜材料的分類(lèi)及特點(diǎn)

發(fā)布日期:2019-08-11 00:00:00 作者: 點(diǎn)擊:0

  光學(xué)鍍膜材料的分類(lèi)及特點(diǎn)

  一、光學(xué)鍍膜材料的分類(lèi):

  1、從化學(xué)組成上,薄膜材料可分為:

  氧化物類(lèi): 一氧化硅、二氧化硅、二氧化鋯、二氧化鈦、三氧化二鋁等

  氟化物類(lèi):氟化鎂、氟化鐿、氟化鋇等

  其它化合物類(lèi):硫化鋅、硒化鋅等

  金屬(合金)類(lèi): 鉻粒、鈦粒、硅粒等光學(xué)鍍膜

  2、從材料功用分,鍍膜材料可分為:

  光功用材料:這種材料在外場(chǎng)(力、聲、熱、電、磁和光)的作用下,光學(xué)性質(zhì)會(huì)發(fā)生變化,因而可作為探測(cè)、維護(hù)和能量轉(zhuǎn)化的材料(如AgCl2,WO3等)。

  光介質(zhì)材料:起傳輸光線(xiàn)的作用。這些材料以折射、反射和透射的方式改變光線(xiàn)的方向、強(qiáng)度和相位,使光線(xiàn)按預(yù)訂要求傳輸,也可吸收或透過(guò)必定波長(zhǎng)規(guī)模的光線(xiàn)而調(diào)整光譜成份。

  二、光學(xué)鍍膜材料的特點(diǎn)

  從化學(xué)結(jié)構(gòu)上看,固體材料(薄膜)中存在著以下鍵力:離子鍵、共價(jià)鍵、金屬鍵、分子鍵(或范德華鍵)。由于化學(xué)鍵的特性,決定了不同薄膜材料或薄膜具有以下不同特點(diǎn):

  1、氧化物膜料大都是雙電荷(或多電荷)的離子型晶體結(jié)構(gòu),因而,決定了氧化物膜料具有熔點(diǎn)高、比嚴(yán)重、高折射率和高機(jī)械強(qiáng)度。它們的折射率一般在1.46~2.7之間。它們也被稱(chēng)作硬介質(zhì)光學(xué)材料。

  2、而氟化物中除含有離子鍵外,大多含有必定的結(jié)合力相對(duì)弱的分子鍵,并且氟離子的單電荷性都決定了氟化物膜料具有低熔點(diǎn)、小比重、低折射率和較差的機(jī)械強(qiáng)度(膜層較軟)。它們的折射率一般在1.35~1.47之間,它們也被稱(chēng)為軟介質(zhì)光學(xué)薄膜材料。

  3、金屬或合金含有大量的自由電子,當(dāng)光射到金屬或合金表面時(shí),光子同電子云的表面層相互作用,使得金屬中的電子得到能量而本征激起,顯現(xiàn)金屬特有的光澤。一般金屬具有較強(qiáng)的反光性和吸光性,因而金屬(或合金)材料一般作為反光薄膜材料或光調(diào)理材料。


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