我們知道，光學(xué)鍍膜方式，主要有兩種：一種是物理氣相沉積，俗稱真空鍍膜，真空蒸發(fā)、濺射鍍膜等；另一種是化學(xué)氣相沉積，即通過電化學(xué)反應(yīng)實(shí)現(xiàn)鍍膜，比如電鍍、電泳、陽極氧化等。

　　真空鍍膜技術(shù)，無論從環(huán)保上，還是鍍膜性能上，都受到行業(yè)的歡迎，而國內(nèi)鍍膜企業(yè)，在不斷通過引進(jìn)國外先進(jìn)鍍膜設(shè)備，結(jié)合自身鍍膜行業(yè)的經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)實(shí)踐，走出了一條光學(xué)鍍膜的快速發(fā)展之路，在經(jīng)濟(jì)和效益上，取得了可喜的成績。

　　主要的光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等。它們在國民經(jīng)濟(jì)和國防建設(shè)中得到了廣泛的應(yīng)用，獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍地減小，采用高反射比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高，利用光學(xué)薄膜可提高硅光電池的效率和穩(wěn)定性。

　　用來選取所需輻射波段的光學(xué)器件，濾光片的一個(gè)共性，就是沒有任何濾光片能讓天體的成像變得更明亮，因?yàn)樗械臑V光片都會(huì)吸收某些波長，從而使物體變得更暗。

　　在光學(xué)鍍膜材料的應(yīng)用上，鍍膜靶材是核心技術(shù)，通過不同靶材中含有的稀有金屬不同而形成不同的光學(xué)鍍膜材料，普遍應(yīng)用的稀有金屬有氟化釔、氟化鐠、鍺、硫化鋅、氟化鎂、二氧化鈦、氧化鋯、鈷、鎵、硒等金屬。在反射鏡的光學(xué)材料中普遍用到銅、鉬、硅、鍺等金屬，在輸出端和透射光學(xué)原件中鍺、砷化鎵、硒化鋅等應(yīng)用廣泛。