鍍膜材料的性能隨薄膜厚度的變化而變化，在500nm處折射率約為1.8。它是非常受歡迎的鋁保護(hù)膜，特別是在800-1 2000nm高入射角的區(qū)域，可作為玻璃保護(hù)膜，并可24小時暴露在濕氣中。一般為粒狀和片狀。

   鍍膜組分的均勻性不是很容易保證，具體因素可以按上述規(guī)定進(jìn)行調(diào)節(jié)，但由于原理有限，對于非單組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不好。薄膜材料的主要技術(shù)之一是指在真空條件下，通過物理方法在某些材料表面氣化成氣態(tài)原子和分子或部分電離成離子的技術(shù)。并通過低壓氣體(或等離子體)工藝在基材表面沉積具有某些特殊功能的薄膜材料。在PVD技術(shù)中，用于制備薄膜材料，統(tǒng)稱PVD鍍膜材料。