在光學鍍膜材料的應用中，鍍膜材料是通過不同靶材料中的不同稀有金屬形成不同光學鍍膜材料的核心技術。真空鍍膜主要是指需要在較高的真空下鍍膜，包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等多種鍍膜方式，用物理或化學方法鍍膜單層或多層透明介質(zhì)膜，可以利用薄膜表面的上下相生或相消干涉，使反射光增加或減少，達到增反射或減反射的效果。

光學膜吸收介質(zhì):方法可以是正常的制服,也可以是不均勻,鍍膜的實際應用比理想的電影要復雜得多,這是因為,制備、薄膜的光學特性和物理特性從大塊的材料,表面和界面粗糙,導致大量的光散射,光學薄膜器件包括反射膜、增透膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等。它們在國民經(jīng)濟和國防建設中得到了廣泛的應用，越來越受到科技工作者的重視。